我國科學家成功制備單分子芯片的部分流程如下。
CuCH4氣相沉積Cu-石墨烯PMMA輔助刻蝕石墨烯Si轉(zhuǎn)移Si-石墨烯
下列說法正確的是( )
C
H
4
氣相沉積
PMMA
輔助刻蝕
S
i
轉(zhuǎn)移
【答案】A
【解答】
【點評】
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發(fā)布:2024/5/19 8:0:9組卷:26引用:2難度:0.5
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