近年我國“中國芯”(主要成分為單質硅)自主研發(fā)再獲突破。工業(yè)上通過反應①Si+3HCl 300℃ SiHCl3+H2和反應②SiHCl3+H2 1100℃ Si+3HCl,由粗硅制得高純硅。下列說法正確的是( )
300
℃
1100
℃
【考點】電子排布式與電子排布圖;原子核外電子排布.
【答案】C
【解答】
【點評】
聲明:本試題解析著作權屬菁優(yōu)網所有,未經書面同意,不得復制發(fā)布。
發(fā)布:2024/5/27 14:0:0組卷:31引用:1難度:0.5
把好題分享給你的好友吧~~