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GaN是制造芯片的新型半導體材料?;卮鹣铝袉栴}:
(1)鎵為第四周期的元素,基態(tài)Ga原子的核外電子排布式為
[Ar]3d104s24p1
[Ar]3d104s24p1

(2)N、Si、P的電負性由強到弱順序為
N>P>Si
N>P>Si
(元素符號表示,下同);C、N、O的第一電離能由大到小順序為
N>O>C
N>O>C
;N2O的空間構(gòu)型為
直線型
直線型
。
(3)芯片制造中用到光刻膠,可由不飽和物質(zhì)甲基丙烯酸甲酯(菁優(yōu)網(wǎng))、馬來酸酐(菁優(yōu)網(wǎng))等通過加聚反應制得。甲基丙烯酸甲酯中碳原子的軌道雜化類型為
sp2、sp3
sp2、sp3
,馬來酸酐分子中,σ鍵和π鍵個數(shù)比為
3:1
3:1

(4)GaN、GaP、GaAs的結(jié)構(gòu)類似于金剛石,熔點如表所示:
物質(zhì) GaN GaP GaAs
熔點/℃ 1700 1480 1238
請分析三者熔點變化的原因
GaN、GaP、GaAs均為原子晶體,原子半徑:N<P<As,與Ca原子形成的共價鍵鍵長逐漸增大,所以熔點逐漸下降
GaN、GaP、GaAs均為原子晶體,原子半徑:N<P<As,與Ca原子形成的共價鍵鍵長逐漸增大,所以熔點逐漸下降

(5)GaAs的晶胞結(jié)構(gòu)如圖甲。將Mn摻雜到GaAs的晶體中得到稀磁性半導體材料(圖乙)。圖甲、圖乙晶體結(jié)構(gòu)不變。
菁優(yōu)網(wǎng)
①圖甲中,Ga原子的配位數(shù)為
4
4
,若GaAs晶體密度為ρ g?cm3,相對分子質(zhì)量為M,NA表示阿伏加德羅常數(shù)的數(shù)值,則晶胞中距離最近的兩個Ga原子間距離為
2
2
×
3
4
M
ρ
N
A
×
1
0
7
2
2
×
3
4
M
ρ
N
A
×
1
0
7
nm。
②圖乙中a、b的坐標分別為(0,0,0)和(1,1,0),則c點Mn的原子坐標為
0
1
2
,
1
2
0
1
2
,
1
2
。摻雜Mn之后,晶體中Mn、Ga、As的原子個數(shù)比為
5:27:32
5:27:32
。

【答案】[Ar]3d104s24p1;N>P>Si;N>O>C;直線型;sp2、sp3;3:1;GaN、GaP、GaAs均為原子晶體,原子半徑:N<P<As,與Ca原子形成的共價鍵鍵長逐漸增大,所以熔點逐漸下降;4;
2
2
×
3
4
M
ρ
N
A
×
1
0
7
;
0
,
1
2
,
1
2
;5:27:32
【解答】
【點評】
聲明:本試題解析著作權(quán)屬菁優(yōu)網(wǎng)所有,未經(jīng)書面同意,不得復制發(fā)布。
發(fā)布:2024/4/20 14:35:0組卷:15引用:2難度:0.5
相似題
  • 菁優(yōu)網(wǎng)1.碳及其化合物有著重要用途。回答下列問題:
    (1)基態(tài)碳原子的價層電子排布圖為
     

    (2)在CH2=CHCN中,碳原子的雜化方式有
     
    、
     
    ,所含σ鍵數(shù)目和π鍵數(shù)目之比為
     
    。
    (3)甲烷、水、氨氣中C、O、N原子均采用sp3雜化方式,VSEPR模型均為正四面體構(gòu)型,比較三者鍵角的大小
     
    (由大到小,用H一R-H表示),其原因是
     
    。
    (4)C60室溫下為紫紅色固體,不溶于水,能溶于四氯化碳等非極性溶劑。據(jù)此判斷C60的晶體類型是
     
    。
    (5)C60晶胞結(jié)構(gòu)如圖,C60分子處于頂點和面心。已知:C60晶胞棱長為14.20? (1?=10-8cm),則C60的晶體密度為
     
    g/cm3。
    C60體中存在正四面體空隙(例如1、3、6、7四點構(gòu)成)和正八面體空隙(例如3、6、7、8、9、12六點構(gòu)成),則平均每一個C60晶胞中有
     
    個正四面體空隙和4個正八面體空隙。當堿金屬元素全部占滿所有空隙后,這類C60摻雜物才具有超導性。若用金屬銫(Cs)填滿所有空隙,距離最近的兩個Cs原子間的距離為
     
     ?。

    發(fā)布:2025/1/5 8:0:1組卷:53引用:2難度:0.4
  • 菁優(yōu)網(wǎng)2.鐵及其化合物在生產(chǎn)生活及科學研究方面應用非常廣泛。
    (1)基態(tài)Fe原子的價層電子的電子排布圖為
     
    ;其最外層電子的電子云形狀為
     
    。
    (2)(NH42Fe(SO42?6H2O俗稱摩爾鹽
    ①NH4+電子式為
     
    。
    ②N、O兩元素的第一電離能由大到小的順序為
     
    (用元素符號表示)
    ③SO42-中S原子的雜化方式為
     
    ,VSEPR模型名稱為
     
    。
    (3)K3[Fe(CN)6]晶體中中心原子的配位數(shù)為
     
    ;晶體的配位體為
     
    (用化學符號表示)
    (4)FeS2晶體的晶胞如圖(c)所示。晶胞邊長為a nm、FeS2相對式量為M,阿伏加德羅常數(shù)的值為NA,其晶體密度的計算表達式為
     
    g?cm-3

    發(fā)布:2025/1/5 8:0:1組卷:7引用:1難度:0.7
  • 3.N、P、As都是ⅤA族元素,且原子序數(shù)依次增大,它們的單質(zhì)和化合物在生產(chǎn)、生活中有廣泛應用。請回答下列相關(guān)問題。
    (1)基態(tài)磷原子的價電子排布式為
     
    。
    (2)已知白磷的分子式為P4,其結(jié)構(gòu)如圖1所示。科學家目前合成了N4分子,其分子結(jié)構(gòu)與白磷類似。則N原子的雜化軌道類型是
     
    ,N-N-N鍵的鍵角為
     
    。
    菁優(yōu)網(wǎng)
    (3)硝酸的沸點較低,從氫鍵的角度推斷其可能的原因是
     
    ;請寫出兩種與NO3-互為等電子體的微?;瘜W式
     
    (請寫一個分子和一個離子)。
    (4)NO2-與鈷形成的配離子[Co(NO26]3-可用于檢驗K+的存在。NO2-離子的VSEPR模型名稱為
     
    ,K3[Co(NO26]是黃色沉淀,該物質(zhì)中四種元素的電負性由大到小的順序是
     
    。
    (5)鋁和白磷在一定條件下可以制備磷化鋁(AlP),磷化鋁晶胞的結(jié)構(gòu)如圖2所示。磷化鋁中,Al原子的配位數(shù)為
     
    ,若最近兩個Al原子之間的距離為acm,用NA表示阿伏加德羅常數(shù)的值,則該晶體的密度為
     
    g?cm-3(用含有以上字母的計算式表示)。

    發(fā)布:2025/1/5 8:0:1組卷:55引用:1難度:0.5
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