光刻機是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路（芯片）的核心設備，“浸沒式光刻”是一種通過在光刻膠和投影物鏡之間加入浸沒液體，從而減小曝光波長提高分辨率的技術。如圖所示，若浸沒液體的折射率為1.40，當不加液體時光刻膠的曝光波長為193nm；加上液體后，光在液體中的傳播速度為 2.14×1082.14×108m/s,波長變?yōu)?138138nm。（光在真空中的傳播速度c=3.0×108m/s,計算結果均保留三位有效數(shù)字）
【答案】2.14×108；138
【解答】
【點評】
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發(fā)布：2024/6/27 10:35:59組卷：24引用：4難度：0.8
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（1）質點P振動的位移y與時間t的關系式；
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發(fā)布：2024/12/29 20:30:1組卷：91引用：4難度：0.5 -
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