工業(yè)生產(chǎn)可利用水煤氣還原氧化鈷得金屬鈷,發(fā)生的主要反應(yīng)有:
Ⅰ.CoO(s)+CO(g)?Co(s)+CO2(g)
Ⅱ.CoO(s)+H2(g)?Co(s)+H2O(g)
同時存在副反應(yīng)Ⅲ.CO2(g)+H2(g)?CO(g)+H2O(g)ΔH=+41kJ?mol-1
回答下列問題:
(1)幾種化學(xué)鍵的鍵能如表所示:
化學(xué)鍵 | C≡O(shè) | H-H | H-O | C=O |
鍵能/kJ?mol-1 | a | 436 | 463 | 750 |
969
969
kJ?mol-1。(2)823K時,將0.1molH2和0.2molCO2充入1L密閉容器中,發(fā)生反應(yīng)III,平衡后容器內(nèi)總壓強(qiáng)為50.66kPa,此時H2O(g)的體積分?jǐn)?shù)為0.2,向容器中加入足量CoO(s)和Co(s),繼續(xù)反應(yīng)達(dá)平衡后容器中H2O(g)的體積分?jǐn)?shù)為0.3。此時容器中H2的物質(zhì)的量n(H2)=
0.01mol
0.01mol
,反應(yīng)Ⅱ的壓強(qiáng)平衡常數(shù)Kp2=9
9
,判斷823K時還原CoO(s)為Co(s)的傾向是CO 大于
大于
H2(填“大于”或“小于”)。(3)研究表明,CO2(g)+H2(g)?CO(g)+H2O(g)反應(yīng)速率方程為v=k[c(CO)?c(H2O)-
c
(
C
O
2
)
?
c
(
H
2
)
K
p
減小
減小
(填“增大”或“減小”或“不變”),T>Tm時v逐漸減小的原因是 Kp減小對v的降低大于k增大對v的提高
Kp減小對v的降低大于k增大對v的提高
。【考點(diǎn)】化學(xué)平衡的計算;有關(guān)反應(yīng)熱的計算.
【答案】969;0.01mol;9;大于;減??;Kp減小對v的降低大于k增大對v的提高
【解答】
【點(diǎn)評】
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發(fā)布:2024/9/13 0:0:8組卷:17引用:4難度:0.7
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1.在催化劑作用下,可逆反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)在溫度為323K和343K時SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時間變化的結(jié)果如圖所示(已知:反應(yīng)速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4,k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù))。下列說法錯誤的是( ?。?/h2>
發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:40引用:1難度:0.5 -
2.甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域,三氯氫硅(SiHCl3)是制備甲硅烷的重要原料?;卮鹣铝袉栴}:
(1)工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時伴隨發(fā)生的反應(yīng)有:
Si(s)+4HCl(g)═SiCl4(g)+2H2(g)△H=-241kJ/mol
SiHCl3(g)+HCl(g)═SiCl4(g)+H2(g)△H=-31kJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是
(2)鋁鋰形成化合物L(fēng)iAlH4既是金屬儲氫材料又是有機(jī)合成中的常用試劑,遇水能得到無色溶液并劇烈分解釋放出H2,請寫出其水解反應(yīng)化學(xué)方程式
(3)三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟,此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑,在不同反應(yīng)溫度下測得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時,平衡轉(zhuǎn)化率為
②323.15K時,要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時間,可采取的最佳措施是
(4)比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐a
v逆=k2x2_SiH2Cl2xSiCl4,k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù),與反應(yīng)溫度有關(guān),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù),則在353.15K時=k1k2
(5)硅元素最高價氧化物對應(yīng)的水化物是H2SiO3,室溫下,0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液,堿性更強(qiáng)的是
已知:H2SiO3:Ka1=2.0×10-10、Ka2=1.0×10-12,H2CO3:Ka1=4.3×10-7、Ka2=5.6×10-11發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:61引用:2難度:0.2 -
3.甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域,三氯氫硅(SiHCl3)是制備甲硅烷的重要原料?;卮鹣铝袉栴}:
(1)工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時伴隨發(fā)生的反應(yīng)有:
①Si(s)+4HCl(g)═SiCl4( g)+2H2(g)△H=-24lkJ/mol
②SiHCl3 (g)+HCl(g)═SiCl4 (g)+H2(g)△H=-3lkJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是
(2)工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰(LiAlH4)制甲硅烷,反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為
(3)三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟,此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑,在不同反應(yīng)溫度下測得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時,平衡轉(zhuǎn)化率為
③比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐a=k1k2發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:19引用:1難度:0.5
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