近年來，華為公司推出了5G商用芯片。制造芯片需要用到高純硅，工業(yè)上利用二氧化硅（SiO2）制備高純硅（Si）的工藝流程如圖：
上述流程中，反應①～③均在高溫條件下進行。粗硅的主要成分是Si。
（1）SiO2中Si的化合價為 +4+4。
（2）反應①需無氧環(huán)境，原因是 防止生成的硅重新被氧化以及防止發(fā)生爆炸防止生成的硅重新被氧化以及防止發(fā)生爆炸，焦炭表現(xiàn)出 還原性還原性（填“氧化性”或“還原性”）。
反應②的化學方程式為 Si+2Cl2 高溫 SiCl4Si+2Cl2 高溫 SiCl4。
反應③屬于基本反應類型中的 置換反應置換反應。
（3）二氧化硅與氫氧化鈉溶液反應類似于二氧化碳，則二氧化硅與氫氧化鈉溶液反應的化學方程式為 SiO2+2NaOH=Na2SiO3+H2OSiO2+2NaOH=Na2SiO3+H2O。
高溫
高溫
【答案】+4；防止生成的硅重新被氧化以及防止發(fā)生爆炸；還原性；Si+2Cl2 SiCl4；置換反應；SiO2+2NaOH=Na2SiO3+H2O
高溫
【解答】
【點評】
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