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試題詳情
真空電阻蒸發(fā)鍍膜是在真空室中利用電阻加熱,將緊貼在電阻絲上的金屬絲(鋁絲)熔融汽化,汽化了的金屬分子沉積于基片上形成均勻膜層。在一塊面積為S的方形基片上形成共有k層鋁分子組成的鍍膜,鋁膜的質(zhì)量為m。已知鋁的摩爾質(zhì)量為M,阿伏加德羅常數(shù)為NA。
①求基片上每層鋁分子單位面積內(nèi)的分子數(shù)n;
②真空氣泵將真空室中的氣體壓強(qiáng)從p0=1.0×105Pa減小到p1=1.0×10-4Pa,設(shè)抽氣后真空室中氣體溫度與抽氣前相同,求抽氣前后真空室中氣體分子數(shù)之比。
【考點(diǎn)】理想氣體及理想氣體的狀態(tài)方程;阿伏加德羅常數(shù)及與其相關(guān)的計算問題.
【答案】見試題解答內(nèi)容
【解答】
【點(diǎn)評】
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發(fā)布:2024/11/14 8:0:1組卷:4引用:0難度:0.5
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發(fā)布:2024/12/13 8:0:1組卷:13引用:2難度:0.3 -
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發(fā)布:2024/12/5 17:0:4組卷:202引用:1難度:0.7 -
3.(選修模塊3-3)
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