碳酸鎂晶體廣泛應(yīng)用于冶金、耐火材料及化工產(chǎn)品等領(lǐng)域。利用某廢渣（含MgCO3、MgO和SiO2）制備碳酸鎂晶體（MgCO3?3H2O）的工藝流程如圖所示，已知SiO2不溶于水。
（1）操作Ⅰ的名稱是 過濾過濾。
（2）為加快“酸溶”的速率，可采取的一種措施是 升溫（合理即可）升溫（合理即可）。
（3）試劑X應(yīng)選用 CC（填字母）。
A．NaOH溶液
B．CaCO3懸濁液
C．Na2CO3溶液
（4）洗滌時檢驗碳酸鎂晶體已洗凈的方法：取最后一次洗滌后的濾液，先滴加足量的稀鹽酸，再滴加 BaCl2（答案合理即可）BaCl2（答案合理即可）（填化學(xué)式）溶液，無明顯現(xiàn)象。
（5）小組同學(xué)取13.8g碳酸鎂晶體進(jìn)行加熱，測得固體質(zhì)量與溫度之間的關(guān)系如圖所示。已知碳酸鎂晶體受熱分解會生成3種氧化物。
①碳酸鎂晶體受熱分解最終生成水的質(zhì)量是 5.45.4g。
②計算高溫條件下完全反應(yīng)后生成氧化鎂的質(zhì)量 4.0g4.0g（寫出計算過程）。
【答案】過濾；升溫（合理即可）；C；BaCl2（答案合理即可）；5.4；4.0g
【解答】
【點評】
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發(fā)布：2024/6/16 8:0:10組卷：25引用：2難度：0.4
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1．氧化鎂在醫(yī)藥等行業(yè)應(yīng)用廣泛。實驗室以菱鎂礦（主要成分為MgCO3，含少量FeCO3，其他雜質(zhì)不溶于水和酸） 為原料制備高純氧化鎂的實驗流程如圖1：
（1）為了提高“酸浸”的效果，可采取的措施有：適當(dāng)升高溫度、。MgCO3與稀硫酸反應(yīng)的化學(xué)方程式為。
（2）“氧化”過程中，將FeSO4全部轉(zhuǎn)化為Fe2（SO4）3，然后加氨水，調(diào)節(jié)溶液的pH范圍為。（已知部分金屬陽離子以氫氧化物形成沉淀時溶液的pH見表）
（3）過濾后得到濾渣2和濾液，濾渣2是對應(yīng)離子 Fe3+ Fe2+ Mg2+ 開始沉淀時的pH 2.7 7.9 9.4 完全沉淀時的pH 3.7 9.6 11.4 （填化學(xué)式），此時濾液中的陽離子一定含有（填離子符號）。
（4）煅燒過程存在以下反應(yīng)：
2MgSO4+C2MgO+2SO2↑+CO2↑800℃
MgSO4+CMgO+SO2↑+CO↑800℃
MgSO4+3CMgO+S↑+3CO↑800℃
已知：①硫在常溫下是一種淡黃色固體，硫的熔點約為115.2℃，沸點約為444.7℃；②高錳酸鉀溶液與SO2反應(yīng)會褪色，且只吸收SO2，不吸收CO2； ③堿溶液既吸收SO2，又吸收CO2．利用如圖2裝置對煅燒產(chǎn)生的氣體進(jìn)行檢驗并收集。
①集氣瓶B中盛放的溶液是（填字母），C中盛放的溶液是（填字母）。
a.Ca（OH）2溶液
b.KMnO4溶液
c.NaOH溶液
d.BaCl2溶液
②裝置D的作用是。發(fā)布：2024/12/25 16:0:1組卷：127引用：2難度：0.5 -
2．硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請回答下列問題：
（1）制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）還原法是當(dāng)前制 備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如圖：
①寫出由純SiHCl3，制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式_。
②整個制備過程必須嚴(yán)格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式；H2還原SiHCl3過程中若混入O2，可能引起的后果是。
（2）石英砂的主要成分是二氧化硅，高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料----光導(dǎo)纖維。二氧化硅和二氧化碳一樣，也能與氫氧化鈉溶液生成硅酸鈉（其水溶液稱水玻璃）和水。請寫出二氧化硅與氫氧化鈉溶液的化學(xué)方程式。發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：23引用：1難度：0.5 -
3．波爾多液含氫氧化鈣、氫氧化銅和硫酸鈣等物質(zhì)，是農(nóng)業(yè)上常用的殺菌劑。一種生產(chǎn)波爾多液的工藝流程如圖。
（1）“煅燒”的化學(xué)方程式為，該反應(yīng)屬于基本反應(yīng)類型中的反應(yīng)。
（2）“混合”時不能用鐵制容器，原因是（用化學(xué)方程式表示）。
（3）“混合”時需不斷攪拌，目的是。
（4）“混合”過程中發(fā)生復(fù)分解反應(yīng)的化學(xué)方程式為。
（5）“混合”后得到的波爾多液溫度明顯高于室溫，原因是。
（6）用可以測定波爾多液酸堿度。發(fā)布：2024/12/25 17:30:2組卷：50引用：2難度：0.5
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