當(dāng)前位置： 2023-2024學(xué)年重慶市縉云教育聯(lián)盟高三（上）質(zhì)檢化學(xué)試卷（9月份）> 試題詳情

SNCR脫硝技術(shù)是指在850℃～100℃時(shí)，NO_X與NH₃發(fā)生反應(yīng)生成N₂的過(guò)程?；卮鹣铝袉?wèn)題：
Ⅰ.煙氣中的SO₂也會(huì)與NO₂反應(yīng)，對(duì)脫硝過(guò)程產(chǎn)生影響。反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為：SO₂（g）+NO₂（g）?SO₃（g）+NO（g）ΔH=akJ/mol。
（1）已知：2SO₂（g）+O₂（g）?2SO₃（g）ΔH=-196.6kJ/mol；2NO（g）+O₂（g）?2NO₂（g）ΔH=-113.0kJ/mol；則a=
-41.8
-41.8
。
（2）在一定條件下，將SO₂與NO₂以體積比2：1置于密閉容器中發(fā)生上述反應(yīng)。下列能說(shuō)明反應(yīng)達(dá)到平衡狀態(tài)的是
BC
BC
（填正確答案標(biāo)號(hào)）。
A.體系壓強(qiáng)保持不變
B.混合氣體的顏色保持不變
C.每消耗1molNO₂同時(shí)生成1molSO₂
D.SO₃和NO的體積比保持不變
Ⅱ.某實(shí)驗(yàn)室在常壓條件下，進(jìn)行以下實(shí)驗(yàn)研究：
已知：850～1100℃時(shí)，主要反應(yīng)為：4NH₃（g）+4NO（g）+O₂（g）?4N₂（g）+6H₂O（g）；1100℃以上時(shí)，主要反應(yīng)為：4NH₃（g）+5O₂（g）?4NO（g）+6H₂O（g）。
（3）1200℃時(shí)，主要反應(yīng)的平衡常數(shù)表達(dá)式K_c=
c
4
（
NO
）
c
6
（
H
2
O
）
c
4
（
N
H
3
）
c
5
（
O
2
）
c
4
（
NO
）
c
6
（
H
2
O
）
c
4
（
N
H
3
）
c
5
（
O
2
）
。
（4）某溫度時(shí)，上述兩個(gè)反應(yīng)都有發(fā)生。NO轉(zhuǎn)化率隨
n
（
N
H
3
）
n
（
NO
）
的變化關(guān)系如圖1所示，NO轉(zhuǎn)化率先上升后下降的原因是
隨
n
（
N
H
3
）
n
（
NO
）
增大，NH₃濃度增大，NO還原反應(yīng)速率加快，脫硝效率上升。但NH₃濃度太高時(shí)，NO濃度太小，NO還原反應(yīng)速率也減小，脫硝效率下降（或隨
n
（
N
H
3
）
n
（
NO
）
增大，NO還原反應(yīng)是主導(dǎo)反應(yīng)，但NH₃濃度太高時(shí)，NO濃度太小，氨氧化反應(yīng)占據(jù)了主導(dǎo)地位，產(chǎn)生了更多的NO）
隨
n
（
N
H
3
）
n
（
NO
）
增大，NH₃濃度增大，NO還原反應(yīng)速率加快，脫硝效率上升。但NH₃濃度太高時(shí)，NO濃度太小，NO還原反應(yīng)速率也減小，脫硝效率下降（或隨
n
（
N
H
3
）
n
（
NO
）
增大，NO還原反應(yīng)是主導(dǎo)反應(yīng)，但NH₃濃度太高時(shí)，NO濃度太小，氨氧化反應(yīng)占據(jù)了主導(dǎo)地位，產(chǎn)生了更多的NO）
。

（5）如果起始時(shí)氣體的體積分?jǐn)?shù)（φ）分別為：φ（NO）=φ（NH₃）=0.05%，φ（O₂）=10%（除SO₂外，其它氣體不參加反應(yīng)），則達(dá)到平衡時(shí)NO轉(zhuǎn)化率和氨逃逸量（NH₃）隨溫度的變化關(guān)系如圖2所示，由圖分析可知：
①SO₂對(duì)NO轉(zhuǎn)化率的影響為
能提高NO轉(zhuǎn)化率
能提高NO轉(zhuǎn)化率
；
②SO₂對(duì)氨逃逸量的影響主要是通過(guò)反應(yīng)生成硫酸鹽或硫酸氫鹽，反應(yīng)的化學(xué)方程式為
2SO₂+4NH₃+O₂+2H₂O=2（NH₄）₂SO₄（或2SO₂+2NH₃+O₂+2H₂O=2NH₄HSO₄）
2SO₂+4NH₃+O₂+2H₂O=2（NH₄）₂SO₄（或2SO₂+2NH₃+O₂+2H₂O=2NH₄HSO₄）
（寫(xiě)出一種即可）。氨逃逸量受影響最大的溫度區(qū)域是
A
A
（填正確答案標(biāo)號(hào)）；
A.775℃～825℃
B.825℃～875℃
C.875℃～925℃
D.925℃～975℃
③850℃時(shí)，無(wú)硫煙氣平衡時(shí)混合氣體中φ（NO）為
0.03%
0.03%
（結(jié)果保留兩位有效數(shù)字）。

【考點(diǎn)】化學(xué)平衡的計(jì)算；化學(xué)平衡狀態(tài)的判斷；化學(xué)平衡的影響因素；熱化學(xué)方程式．

【答案】-41.8；BC；

（

）

（

）

（

）

（

）

；隨

（

）

（

）

增大，NH₃濃度增大，NO還原反應(yīng)速率加快，脫硝效率上升。但NH₃濃度太高時(shí)，NO濃度太小，NO還原反應(yīng)速率也減小，脫硝效率下降（或隨

（

）

（

）

增大，NO還原反應(yīng)是主導(dǎo)反應(yīng)，但NH₃濃度太高時(shí)，NO濃度太小，氨氧化反應(yīng)占據(jù)了主導(dǎo)地位，產(chǎn)生了更多的NO）；能提高NO轉(zhuǎn)化率；2SO₂+4NH₃+O₂+2H₂O=2（NH₄）₂SO₄（或2SO₂+2NH₃+O₂+2H₂O=2NH₄HSO₄）；A；0.03%

【解答】

【點(diǎn)評(píng)】

聲明：本試題解析著作權(quán)屬菁優(yōu)網(wǎng)所有，未經(jīng)書(shū)面同意，不得復(fù)制發(fā)布。

當(dāng)前模式為游客模式，立即登錄查看試卷全部?jī)?nèi)容及下載

發(fā)布：2024/4/20 14:35:0組卷：14引用：2難度：0.6

相似題

1．在催化劑作用下，可逆反應(yīng)2SiHCl₃（g）?SiH₂Cl₂（g）+SiCl₄（g）在溫度為323K和343K時(shí)SiHCl₃的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示（已知：反應(yīng)速率v=v_正-v_逆=k_正x²_SiHCl3-k_逆x_SiH2Cl2x_SiCl4，k_正、k_逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)）。下列說(shuō)法錯(cuò)誤的是（　　）

A．343K時(shí)，反應(yīng)的平衡轉(zhuǎn)化率為22%

B．343K時(shí)，反應(yīng)的平衡常數(shù)約為0.02

C．343K時(shí)，提高反應(yīng)物壓強(qiáng)或濃度可縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間

D．a(chǎn)處的

正

逆

=1.1，且a處的反應(yīng)速率大于b處的反應(yīng)速率

發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：40引用：1難度：0.5

解析

2．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車(chē)領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料?；卮鹣铝袉?wèn)題：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
Si（s）+4HCl（g）═SiCl₄（g）+2H₂（g）△H=-241kJ/mol
SiHCl₃（g）+HCl（g）═SiCl₄（g）+H₂（g）△H=-31kJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl₃的熱化學(xué)方程式是

。
（2）鋁鋰形成化合物L(fēng)iAlH₄既是金屬儲(chǔ)氫材料又是有機(jī)合成中的常用試劑，遇水能得到無(wú)色溶液并劇烈分解釋放出H₂，請(qǐng)寫(xiě)出其水解反應(yīng)化學(xué)方程式

。LiAlH₄在化學(xué)反應(yīng)中通常作

（填“氧化”或“還原”）劑。工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH₄）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為

。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl₃（g）?SiH₂Cl₂（g）+SiCl₄（g）為歧化制甲硅烷過(guò)程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl₃的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí)，平衡轉(zhuǎn)化率為

，該反應(yīng)是

反應(yīng)（填“放熱”“吸熱”）。
②323.15K時(shí)，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間，可采取的最佳措施是

。
（4）比較a、b處反應(yīng)速率的大小：v_a

v_b（填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v_正=k₁x²__SiHCl3，
v_逆=k₂x²__SiH2Cl2x_SiCl4，k₁、k₂分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，則在353.15K時(shí)
k
1
k
2
=

（保留3位小數(shù)）。
（5）硅元素最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)的水化物是H₂SiO₃，室溫下，0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液，堿性更強(qiáng)的是

，其原因是

。
已知：H₂SiO₃：K_a1=2.0×10^-10、K_a2=1.0×10^-12，H₂CO₃：K_a1=4.3×10^-7、K_a2=5.6×10^-11
發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：61引用：2難度：0.2
解析
3．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車(chē)領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl₃）是制備甲硅烷的重要原料?；卮鹣铝袉?wèn)題：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl₃時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
①Si（s）+4HCl（g）═SiCl₄（ g）+2H₂（g）△H=-24lkJ/mol
②SiHCl₃ （g）+HCl（g）═SiCl₄ （g）+H₂（g）△H=-3lkJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl₃的熱化學(xué)方程式是

。
（2）工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH₄）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為

。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl₃（g）?SiH₂Cl₂（g）+SiCl₄（g）為歧化制甲硅烷過(guò)程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl₃的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí)，平衡轉(zhuǎn)化率為

。該反應(yīng)是

反應(yīng)（填“放熱”或“吸熱”）。②323.15K時(shí)，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間，可采取的措施有

。（答一種即可）
③比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐_a

v_b（填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v_正=k₁x²_SiHCl3 v_逆=k₂x_SiH2Cl2 x_SiCl4，k₁、k₂分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，則在353.15K時(shí)
k
1
k
2
=

（保留3位小數(shù)）。
發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：19引用：1難度：0.5
解析

把好題分享給你的好友吧~~