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利用濃厚鹵(色澤差、渾濁度高,含氯化鎂400g/L~450g/L左右,及少量硫酸鎂)為原料制備高純度食品級氯化鎂(MgCl2?6H2O)的工藝流程圖如下,回答問題。
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【資料卡片】:
①CaSO4?2H2O的溶解度如下表所示:
溫度/℃ 0 10 20 30 40 60 80 100
溶解度/g 0.223 0.244 0.255 0.264 0.265 0.244 0.234 0.205
②食品級氯化鎂(MgCl2?6H2O)在95℃開始脫水分解。
③鎂離子在弱堿性條件下會生成Mg(OH)2沉淀,影響產品色度。
④蒸發(fā)溫度不同,產品中MgCl2含量不同,當溫度選到140℃時,氯化鎂含量區(qū)域穩(wěn)定。
(1)脫色時,反應溫度對脫色率的影響如圖,分析圖像可知,
40
40
℃脫色效果最好,溫度繼續(xù)升高,脫色效果降低的原因可能是
溫度升高,過氧化氫受熱分解
溫度升高,過氧化氫受熱分解
。
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(2)脫硫的原理是
CaCl2+MgSO4+2H2O=CaSO4?2H2O+MgCl2
CaCl2+MgSO4+2H2O=CaSO4?2H2O+MgCl2
(填化學方程式),使用CaCl2脫硫,會引入少量
硫酸鈣
硫酸鈣
雜質。反應溫度對脫硫效果的影響如圖,當溫度在
50~60
50~60
℃(填溫度區(qū)間)時,硫酸根濃度明顯下降,原因是
CaSO4?2H2O的溶解度較小
CaSO4?2H2O的溶解度較小
、
溫度越高,反應越快
溫度越高,反應越快
。脫硫時,不使用BaCl2作為脫硫劑的原因除了其污染環(huán)境外,還因為
可溶性鋇鹽有毒,不能用于食品
可溶性鋇鹽有毒,不能用于食品
。
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(3)調節(jié)pH的目的是
鎂離子在弱堿性條件下會生成Mg(OH)2沉淀,影響產品色度
鎂離子在弱堿性條件下會生成Mg(OH)2沉淀,影響產品色度
。不同的pH條件下溶液呈現(xiàn)出不同的色度,觀察圖,pH為
3
3
時,溶液色度最佳。
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(4)“…”為一系列操作,包含
蒸發(fā)濃縮
蒸發(fā)濃縮
→冷卻結晶→真空抽濾等操作。根據(jù)資料卡片,完成空格處的操作。
(5)烘干時,要控制烘箱溫度為90℃,溫度不宜過高,原因是
食品級氯化鎂(MgCl2?6H2O)在95℃開始脫水分解
食品級氯化鎂(MgCl2?6H2O)在95℃開始脫水分解

(6)為測定產品中
S
O
2
-
4
的殘留率,學習小組準確稱取64.000g樣品溶于足量水,加入BaCl2溶液至沉淀不再產生,過濾、烘干,得到沉淀0.233g,計算產品中
S
O
2
-
4
的殘留率(寫出計算過程)。

【答案】40;溫度升高,過氧化氫受熱分解;CaCl2+MgSO4+2H2O=CaSO4?2H2O+MgCl2;硫酸鈣;50~60;CaSO4?2H2O的溶解度較小;溫度越高,反應越快;可溶性鋇鹽有毒,不能用于食品;鎂離子在弱堿性條件下會生成Mg(OH)2沉淀,影響產品色度;3;蒸發(fā)濃縮;食品級氯化鎂(MgCl2?6H2O)在95℃開始脫水分解
【解答】
【點評】
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發(fā)布:2024/6/27 10:35:59組卷:243引用:4難度:0.4
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  • 1.氧化鎂在醫(yī)藥等行業(yè)應用廣泛。實驗室以菱鎂礦(主要成分為MgCO3,含少量FeCO3,其他雜質不溶于水和酸) 為原料制備高純氧化鎂的實驗流程如圖1:
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    (1)為了提高“酸浸”的效果,可采取的措施有:適當升高溫度、
     
    。MgCO3與稀硫酸反應的化學方程式為
     
    。
    (2)“氧化”過程中,將FeSO4全部轉化為Fe2(SO43,然后加氨水,調節(jié)溶液的pH范圍為
     
    。(已知部分金屬陽離子以氫氧化物形成沉淀時溶液的pH見表)
     對應離子  Fe3+ Fe2+ Mg2+
     開始沉淀時的pH 2.7 7.9 9.4
     完全沉淀時的pH 3.7 9.6 11.4
    (3)過濾后得到濾渣2和濾液,濾渣2是
     
    (填化學式),此時濾液中的陽離子一定含有
     
    (填離子符號)。
    (4)煅燒過程存在以下反應:
    2MgSO4+C
    800
    2MgO+2SO2↑+CO2
    MgSO4+C
    800
    MgO+SO2↑+CO↑
    MgSO4+3C
    800
    MgO+S↑+3CO↑
    已知:①硫在常溫下是一種淡黃色固體,硫的熔點約為115.2℃,沸點約為444.7℃;②高錳酸鉀溶液與SO2反應會褪色,且只吸收SO2,不吸收CO2; ③堿溶液既吸收SO2,又吸收CO2.利用如圖2裝置對煅燒產生的氣體進行檢驗并收集。
    ①集氣瓶B中盛放的溶液是
     
    (填字母),C中盛放的溶液是
     
    (填字母)。
    a.Ca(OH)2溶液
    b.KMnO4溶液
    c.NaOH溶液
    d.BaCl2溶液
    ②裝置D的作用是
     
    。

    發(fā)布:2024/12/25 16:0:1組卷:127引用:2難度:0.5
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    (1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制 備高純硅的主要方法,生產過程示意圖如圖:
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    ①寫出由純SiHCl3,制備高純硅的化學反應方程式_
     
    。
    ②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質,寫出配平的化學反應方程式
     
    ;H2還原SiHCl3過程中若混入O2,可能引起的后果是
     
    。
    (2)石英砂的主要成分是二氧化硅,高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料----光導纖維。二氧化硅和二氧化碳一樣,也能與氫氧化鈉溶液生成硅酸鈉(其水溶液稱水玻璃)和水。請寫出二氧化硅與氫氧化鈉溶液的化學方程式
     

    發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:23引用:1難度:0.5
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    (1)“煅燒”的化學方程式為
     
    ,該反應屬于基本反應類型中的
     
    反應。
    (2)“混合”時不能用鐵制容器,原因是
     
    (用化學方程式表示)。
    (3)“混合”時需不斷攪拌,目的是
     
    。
    (4)“混合”過程中發(fā)生復分解反應的化學方程式為
     

    (5)“混合”后得到的波爾多液溫度明顯高于室溫,原因是
     
    。
    (6)用
     
    可以測定波爾多液酸堿度。

    發(fā)布:2024/12/25 17:30:2組卷:50引用:2難度:0.5
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