高聚物H可用于光刻工藝中,作抗腐蝕涂層。下列是高聚物H的一種合成路線:
已知:①RCHO+R1CH2COOH催化劑,350℃+H2O
②由B生成C的反應(yīng)屬于加聚反應(yīng)
③D屬于高分子化合物;
請回答下列問題:
(1)A的化學(xué)名稱為 乙炔乙炔。
(2)B中含氧官能團的名稱是 酯基酯基。
(3)由A生成B和Y生成E的反應(yīng)類型分別為 加成反應(yīng);水解反應(yīng)或取代反應(yīng)加成反應(yīng);水解反應(yīng)或取代反應(yīng)。
(4)由F生成G的化學(xué)方程式為 +CH3COOH催化劑350℃+H2O+CH3COOH催化劑350℃+H2O。
(5)H的結(jié)構(gòu)簡式為 。
(6)只有一種官能團的芳香化合物W是G的同分異構(gòu)體,W能發(fā)生銀鏡反應(yīng),其中核磁共振氫譜為四組峰,峰面積比為3:2:2:1的結(jié)構(gòu)簡式為 或或。
催化劑
,
350
℃
催化劑
350
℃
催化劑
350
℃
【答案】乙炔;酯基;加成反應(yīng);水解反應(yīng)或取代反應(yīng);+CH3COOH+H2O;;或
催化劑
350
℃
【解答】
【點評】
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發(fā)布:2024/4/20 14:35:0組卷:7引用:2難度:0.3
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(4)合成的單體是發(fā)布:2024/12/16 8:0:1組卷:32引用:1難度:0.5 -
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已知反應(yīng):
請完成下列各題:
(1)寫出物質(zhì)的結(jié)構(gòu)簡式:A
(2)寫出反應(yīng)③的化學(xué)方程式:
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④若足量溴水吸收乙炔,完全反應(yīng)生成C2H2Br4,已知稱取電石m克,理想狀況下,測得d中增重n克,則電石純度(寫出計算過程)發(fā)布:2024/12/18 18:0:1組卷:23引用:1難度:0.5 -
3.如圖是合成高分子材料Ⅰ和部分物質(zhì)轉(zhuǎn)化的過程示意。已知:G、H和I均含有酯基,下列說法正確的是( ?。?br />
發(fā)布:2024/12/14 17:0:1組卷:58引用:4難度:0.5
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