我國光學(xué)薄膜精密微復(fù)制技術(shù)取得重要突破，據(jù)相關(guān)負(fù)責(zé)人說，開發(fā)出的特殊刻印涂層樹脂配方，在光學(xué)薄膜刻印涂層背面采用防眩、防劃傷或防靜電處理。下列關(guān)于光學(xué)薄膜精密微復(fù)制技術(shù)的說法中，不恰當(dāng)?shù)氖牵ā 。?/h1>
【答案】B
【解答】
【點評】
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發(fā)布：2024/4/20 14:35:0組卷：6引用：1難度：0.6
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1．科技無止境。復(fù)旦大學(xué)研制成了具有二維半導(dǎo)體準(zhǔn)“非易失”存儲原型器件，開創(chuàng)了第三類存儲技術(shù)，其寫入速度比目前U盤快一萬倍，這解決了國際半導(dǎo)體電荷存儲技術(shù)中“寫入速度”與“非易失性”難以兼得的難題。它得到了國家自然科學(xué)基金的支持，其相關(guān)成果發(fā)表于《自然納米技術(shù)》雜志。關(guān)于這個案例的分析不合理的是（ ）
發(fā)布：2025/1/2 14:0:2組卷：6引用：3難度：0.6 -
2．專利權(quán)是國家按專利法授予申請人，在一定時間內(nèi)對其發(fā)明成果所享有的獨占、使用和處分的權(quán)利。以下內(nèi)容不屬于申請專利種類的是（ ?。?/h2>
發(fā)布：2024/12/13 7:30:1組卷：13引用：4難度：0.6 -
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發(fā)布：2024/12/20 6:30:1組卷：7引用：4難度：0.5
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