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鎵是制作高性能半導體的重要原料。在工業(yè)上經(jīng)常從鋅礦冶煉的廢渣中回收鎵。已知鋅礦渣中含有Zn、Fe、Pb、Ga以及二氧化硅等,目前綜合利用鋅礦渣的流程如圖:
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已知:①Ga性質與鋁相似。
②lg2=0.3,lg3=0.48。
③如下表所示。
Zn(OH)2 Ga(OH)3 Fe(OH)2 Fe(OH)3
Ksp 1.6×10-17 2.7×10-31 8×10-16 2.8×10-39
(1)寫出Ga的原子結構示意圖
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。
(2)濾渣1的成分為
SiO2、PbSO4
SiO2、PbSO4
。
(3)加入H2O2的目的( 用離子方程式和適當語言回答) 
氧化亞鐵離子調節(jié)溶液pH沉淀鐵離子,反應的離子方程式為:2Fe2++H2O2+2H+=2Fe3++2H2O
氧化亞鐵離子調節(jié)溶液pH沉淀鐵離子,反應的離子方程式為:2Fe2++H2O2+2H+=2Fe3++2H2O
。
(4)室溫條件下,若浸出液中各種陽離子的濃度均為0.01mol/L且某種離子濃度小于1×10-5mol/L即認為該離子已完全除去,問操作B調節(jié)pH的范圍是
5.48<pH<6.6
5.48<pH<6.6
。
(5)操作C中,需要加入氫氧化鈉溶液,其目的是
將Ga(OH)3轉化為NaGaO2,分離出Fe(OH)3
將Ga(OH)3轉化為NaGaO2,分離出Fe(OH)3
 (用離子方程式解釋);能否用氨水代替NaOH溶液,為什么?
不能,一水合氨為弱堿,不能使Ga(OH)3溶解
不能,一水合氨為弱堿,不能使Ga(OH)3溶解
;如何檢測Fe(OH)3洗滌干凈?
取最后一次洗滌浸出液,加入氯化鋇溶液,若有白色沉淀生成,則說明未洗滌干凈,若無白色沉淀,說明已洗滌干凈
取最后一次洗滌浸出液,加入氯化鋇溶液,若有白色沉淀生成,則說明未洗滌干凈,若無白色沉淀,說明已洗滌干凈
。
(6)在工業(yè)上,經(jīng)常用電解NaGaO2溶液的方法生產Ga,寫出陰極的電極反應方程式:
G
a
O
-
2
+2H2O+3e-=Ga+4OH-
G
a
O
-
2
+2H2O+3e-=Ga+4OH-
。

【答案】菁優(yōu)網(wǎng);SiO2、PbSO4;氧化亞鐵離子調節(jié)溶液pH沉淀鐵離子,反應的離子方程式為:2Fe2++H2O2+2H+=2Fe3++2H2O;5.48<pH<6.6;將Ga(OH)3轉化為NaGaO2,分離出Fe(OH)3;不能,一水合氨為弱堿,不能使Ga(OH)3溶解;取最后一次洗滌浸出液,加入氯化鋇溶液,若有白色沉淀生成,則說明未洗滌干凈,若無白色沉淀,說明已洗滌干凈;
G
a
O
-
2
+2H2O+3e-=Ga+4OH-
【解答】
【點評】
聲明:本試題解析著作權屬菁優(yōu)網(wǎng)所有,未經(jīng)書面同意,不得復制發(fā)布。
發(fā)布:2024/4/20 14:35:0組卷:24引用:1難度:0.5
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    (1)用足量(NH42SO4溶液和氨水“浸出”鋅焙砂。
    ①“浸出”前,鋅焙砂預先粉碎的目的是
     

    ②通過“浸出”步驟,鋅焙砂中的ZnO轉化為[Zn(NH34]2+,該反應的離子方程式為
     
    。
    (2)“浸出”時As2O3轉化為
    A
    s
    O
    3
    -
    3
    ?!俺椤辈襟E①中用(NH42S2O8作氧化劑,步驟①反應的離子方程式為
     
    。
    (3)“除重金屬”時,加入BaS溶液。濾渣Ⅱ中含有的主要物質是
     
    和BaSO4
    (4)“蒸氨”時會出現(xiàn)白色固體ZnSO4?Zn(OH)2,運用平衡移動原理解釋原因:
     

    (5)“沉鋅”步驟①中加入足量NH4HCO3溶液將白色固體轉化為ZnCO3的離子方程式為
     
    。
    (6)“煅燒”步驟中,不同溫度下,ZnCO3分解的失重曲線和產品ZnO的比表面積變化情況如圖1、圖2所示。
    已知:?。腆w失重質量分數(shù)=
    樣品起始質量
    -
    剩余固體質量
    樣品起始質量
    ×100%。
    ⅱ.比表面積指單位質量固體所具有的總面積;比表面積越大,產品ZnO的活性越高。
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    ①280℃時煅燒ZnCO3,300min后固體失重質量分數(shù)為33.3%,則ZnCO3的分解率為
     
    %(保留到小數(shù)點后一位)。
    ②根據(jù)圖1和圖2,獲得高產率(ZnCO3分解率>95%)、高活性(ZnO比表面積>40m2?g-1)產品ZnO的最佳條件是
     
    (填字母序號)。
    a.恒溫280℃,60~120min
    b.恒溫300℃,240~300min
    c.恒溫350℃,240~300min
    d.恒溫550℃,60~120min
    (7)該流程中可循環(huán)利用的物質有
     
    。

    發(fā)布:2024/12/30 14:0:1組卷:79引用:5難度:0.5
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