光刻技術是現(xiàn)代納米級電路的基石，它是指利用透鏡將繪制在掩膜上的電路通過紫外光投射到涂有光刻膠的硅片上，從而制造出集成電路的方法。其工作原理如圖所示，此時恰好在硅片上成清晰的像。下列說法不正確的是（　?。?/h1>

A．在硅片上形成的像是實像

B．硅具有非常好的導電性，屬于一種導體材料

C．硅片位于縮圖透鏡的一倍焦距和二倍焦距之間

D．此投射原理與照相機的原理相同

【答案】B

【解答】

【點評】

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發(fā)布：2024/4/28 8:51:19組卷：34引用：1難度：0.7

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發(fā)布：2025/1/1 7:0:7組卷：166引用：3難度：0.8
解析
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發(fā)布：2024/12/30 16:30:5組卷：77引用：1難度：0.6
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