光刻技術(shù)是現(xiàn)代半導(dǎo)體集成電路的關(guān)鍵一環(huán)，其工作原理如圖所示。光源發(fā)出強(qiáng)
紫外光，調(diào)整鏤空掩膜版和縮圖透鏡之間的距離，使光通過(guò)二者后，恰好能在硅片上成清晰的像，從而實(shí)現(xiàn)納米級(jí)集成電路的“雕刻”，下列說(shuō)法錯(cuò)誤的是（ ?。?/h1>
【考點(diǎn)】凸透鏡成像規(guī)律的應(yīng)用；遠(yuǎn)視眼的矯正．
【答案】A
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
聲明：本試題解析著作權(quán)屬菁優(yōu)網(wǎng)所有，未經(jīng)書(shū)面同意，不得復(fù)制發(fā)布。
發(fā)布：2024/5/27 14:0:0組卷：53引用：1難度：0.8
相關(guān)試卷