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在芯片制作過程中,涉及硅粉在磁場(chǎng)中的偏轉(zhuǎn)和吸收,情景可以簡(jiǎn)化為如下:如圖(1)所示:在
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圓形區(qū)域OAB中有垂直于該平面的勻強(qiáng)磁場(chǎng),磁感應(yīng)強(qiáng)度為B,硅粉可視為質(zhì)量為m,帶電量為+q的帶電粒子,硅粉從靜止開始經(jīng)U的加速電壓加速以后從AB邊界的中點(diǎn)C垂直O(jiān)A邊界進(jìn)入磁場(chǎng),經(jīng)過磁場(chǎng)作用以后恰好從OB邊界的中點(diǎn)D垂直O(jiān)B邊界離開磁場(chǎng)?忽略硅粉的重力和硅粉之間的相互作用力。
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(1)求圓形區(qū)域OAB磁場(chǎng)的半徑R。
(2)如圖(2)所示:如果同時(shí)有N(N很大)個(gè)硅粉在C點(diǎn)上下0.4R的范圍內(nèi)均垂直AO方向入射,并且如圖建立xOy坐標(biāo)系,在OB邊界下方0.2R處有一個(gè)平行r軸的無限長(zhǎng)接受屏EF。硅粉碰到接受屏后完全吸收不反彈。
①求所有硅粉通過x軸時(shí),有硅粉通過區(qū)間的x值范圍;
②如果這N個(gè)硅粉經(jīng)過的場(chǎng)偏轉(zhuǎn)后通過x軸時(shí)空間上沿x軸均勻分布,求足夠長(zhǎng)時(shí)間后接受屏EF受到的所有硅粉的總沖量。

【答案】見試題解答內(nèi)容
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
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發(fā)布:2024/6/27 10:35:59組卷:64引用:1難度:0.3
相似題
  • 1.如圖1所示,在xOy坐標(biāo)系中,兩平行極板P、Q垂直于y軸且關(guān)于x軸對(duì)稱,極板長(zhǎng)度和板間距均為l,緊靠極板的右邊緣的有界勻強(qiáng)磁場(chǎng)區(qū)域由ΔAB0和矩形0BCD構(gòu)成,其中∠OAB=60°,OD=OA.磁場(chǎng)方向垂直于xOy平面向里,D、A位于y軸上。位于極板左側(cè)的粒子源沿x軸向右接連發(fā)射質(zhì)量為m,電荷量為+q、速度相同的帶電粒子,現(xiàn)在0~3t0時(shí)間內(nèi)兩板間加上如圖2所示的電壓,已知t=0時(shí)刻進(jìn)入兩板間的粒子,在t0時(shí)刻射入磁場(chǎng)時(shí),恰好不會(huì)從磁場(chǎng)邊界射出磁場(chǎng)區(qū)域且圓心在x軸上,上述l、m、q、t0為已知量,U0=
    m
    l
    2
    q
    t
    0
    2
    ,不考慮P、Q兩板電壓的變化對(duì)磁場(chǎng)的影響,也不考慮粒子的重力及粒子間的相互影響,求:
    (1)t=0時(shí)刻進(jìn)入兩板間的帶電粒子射入磁場(chǎng)時(shí)的速度;
    (2)勻強(qiáng)磁場(chǎng)的磁感應(yīng)強(qiáng)度的大小及磁場(chǎng)區(qū)域的面積;
    (3)t=t0時(shí)刻進(jìn)入兩板間的帶電粒子在勻強(qiáng)磁場(chǎng)中運(yùn)動(dòng)的時(shí)間。
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    發(fā)布:2024/12/30 0:0:1組卷:79引用:2難度:0.7
  • 菁優(yōu)網(wǎng)2.如圖,半徑為d的圓形區(qū)域內(nèi)有磁感應(yīng)強(qiáng)度為B的勻強(qiáng)磁場(chǎng),磁場(chǎng)垂直圓所在的平面。一帶電量為q、質(zhì)量為m的帶電粒子從圓周上a點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)圓心O射入磁場(chǎng),從b點(diǎn)折射出來,若α=60°,則帶電粒子射入磁場(chǎng)的速度大小為( ?。?/h2>

    發(fā)布:2025/1/6 0:30:5組卷:272引用:2難度:0.6
  • 菁優(yōu)網(wǎng)3.如圖所示,三角形ABC內(nèi)有垂直于三角形平面向外的勻強(qiáng)磁場(chǎng),AB邊長(zhǎng)為L(zhǎng),∠CAB=30°,∠B=90°,D是AB邊的中點(diǎn)?,F(xiàn)在DB段上向磁場(chǎng)內(nèi)射入速度大小相同、方向平行于BC的同種粒子(不考慮粒子間的相互作用和粒子重力),若從D點(diǎn)射入的粒子恰好能垂直AC邊射出磁場(chǎng),則AC邊上有粒子射出的區(qū)域長(zhǎng)度為( ?。?/h2>

    發(fā)布:2025/1/3 0:30:3組卷:300引用:1難度:0.5
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