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新冠肺炎在全球肆虐,醫(yī)用防護口罩和消毒劑在預防新冠肺炎傳播過程中發(fā)揮了不可替代的作用。生產(chǎn)醫(yī)用口罩最核心的材料是“熔噴布”,它的主要成分是聚丙烯塑料,口罩上的鼻梁壓條是金屬鋁。一定濃度的乙醇(C2H5OH)、過氧化氫、過氧乙酸(CH3COOOH)和84消毒液(有效成分為NaClO)均能有效殺滅新型冠狀病毒。
(1)熔噴布的主要成分屬于
合成
合成
(填“金屬”“合成”或“復合”)材料。
(2)四種消毒液的主要成分中屬于鹽類的是
d
d
(填字母)。
a.C2H5OH
b.H2O2
c.CH3COOOH
d.NaClO
(3)金屬鋁生活中使用廣泛。鋁合金中主要含有鋁、銅、鎂三種金屬,為驗證這三種金屬的活動順序,某同學設(shè)計了如圖3個實驗:實驗甲中會出現(xiàn)的現(xiàn)象是
析出紅色固體,溶液顏色變淺或變成無色
析出紅色固體,溶液顏色變淺或變成無色
;另一位同學認為實驗乙、丙中均無明顯現(xiàn)象,對完整的結(jié)論沒有作用,都可以省去。你的看法是
C
C
(填序號)。
A.乙、丙都可以省去
B.乙、丙都不能省去
C.丙可以省去,乙不能省
D.乙可以省去,丙不能省
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(4)工業(yè)上以粗鹽為原料制備次氯酸鈉(NaClO)的生產(chǎn)流程如圖:
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注:Cl2在通常情況下為黃綠色氣體,有毒。
①使用84消毒液進行消毒時,要注意避免與潔廁靈(主要成分為濃HCl)混用,以免產(chǎn)生Cl2引起中毒:2HCl+NaClO═X+Cl2↑+H2O。X的化學式為
NaCl
NaCl
。
②將NaCl溶液由不飽和轉(zhuǎn)變?yōu)轱柡统2捎谜舭l(fā)濃縮的方法。一般不采用降溫方法的主要原因是
氯化鈉的溶解度受溫度變化影響較小
氯化鈉的溶解度受溫度變化影響較小

③寫出電解NaCl飽和溶液時反應的化學方程式:
2NaCl+2H2O
通電
2NaOH+H2↑+Cl2
2NaCl+2H2O
通電
2NaOH+H2↑+Cl2
。
④要把50g質(zhì)量分數(shù)為12%的次氯酸鈉溶液稀釋為質(zhì)量分數(shù)為2%的次氯酸鈉溶液,需要水的體積為
250
250
mL,下列儀器該實驗過程中不需要的是
漏斗
漏斗
(填名稱)。
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【答案】合成;d;析出紅色固體,溶液顏色變淺或變成無色;C;NaCl;氯化鈉的溶解度受溫度變化影響較?。?NaCl+2H2O
通電
2NaOH+H2↑+Cl2↑;250;漏斗
【解答】
【點評】
聲明:本試題解析著作權(quán)屬菁優(yōu)網(wǎng)所有,未經(jīng)書面同意,不得復制發(fā)布。
發(fā)布:2024/6/27 10:35:59組卷:14引用:2難度:0.5
相似題
  • 1.氧化鎂在醫(yī)藥等行業(yè)應用廣泛。實驗室以菱鎂礦(主要成分為MgCO3,含少量FeCO3,其他雜質(zhì)不溶于水和酸) 為原料制備高純氧化鎂的實驗流程如圖1:
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    (1)為了提高“酸浸”的效果,可采取的措施有:適當升高溫度、
     
    。MgCO3與稀硫酸反應的化學方程式為
     

    (2)“氧化”過程中,將FeSO4全部轉(zhuǎn)化為Fe2(SO43,然后加氨水,調(diào)節(jié)溶液的pH范圍為
     
    。(已知部分金屬陽離子以氫氧化物形成沉淀時溶液的pH見表)
     對應離子  Fe3+ Fe2+ Mg2+
     開始沉淀時的pH 2.7 7.9 9.4
     完全沉淀時的pH 3.7 9.6 11.4
    (3)過濾后得到濾渣2和濾液,濾渣2是
     
    (填化學式),此時濾液中的陽離子一定含有
     
    (填離子符號)。
    (4)煅燒過程存在以下反應:
    2MgSO4+C
    800
    2MgO+2SO2↑+CO2
    MgSO4+C
    800
    MgO+SO2↑+CO↑
    MgSO4+3C
    800
    MgO+S↑+3CO↑
    已知:①硫在常溫下是一種淡黃色固體,硫的熔點約為115.2℃,沸點約為444.7℃;②高錳酸鉀溶液與SO2反應會褪色,且只吸收SO2,不吸收CO2; ③堿溶液既吸收SO2,又吸收CO2.利用如圖2裝置對煅燒產(chǎn)生的氣體進行檢驗并收集。
    ①集氣瓶B中盛放的溶液是
     
    (填字母),C中盛放的溶液是
     
    (填字母)。
    a.Ca(OH)2溶液
    b.KMnO4溶液
    c.NaOH溶液
    d.BaCl2溶液
    ②裝置D的作用是
     

    發(fā)布:2024/12/25 16:0:1組卷:127引用:2難度:0.5
  • 2.硅單質(zhì)及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題:
    (1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制 備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如圖:
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    ①寫出由純SiHCl3,制備高純硅的化學反應方程式_
     
    。
    ②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫出配平的化學反應方程式
     
    ;H2還原SiHCl3過程中若混入O2,可能引起的后果是
     
    。
    (2)石英砂的主要成分是二氧化硅,高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料----光導纖維。二氧化硅和二氧化碳一樣,也能與氫氧化鈉溶液生成硅酸鈉(其水溶液稱水玻璃)和水。請寫出二氧化硅與氫氧化鈉溶液的化學方程式
     

    發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:23引用:1難度:0.5
  • 3.波爾多液含氫氧化鈣、氫氧化銅和硫酸鈣等物質(zhì),是農(nóng)業(yè)上常用的殺菌劑。一種生產(chǎn)波爾多液的工藝流程如圖。
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    (1)“煅燒”的化學方程式為
     
    ,該反應屬于基本反應類型中的
     
    反應。
    (2)“混合”時不能用鐵制容器,原因是
     
    (用化學方程式表示)。
    (3)“混合”時需不斷攪拌,目的是
     
    。
    (4)“混合”過程中發(fā)生復分解反應的化學方程式為
     

    (5)“混合”后得到的波爾多液溫度明顯高于室溫,原因是
     
    。
    (6)用
     
    可以測定波爾多液酸堿度。

    發(fā)布:2024/12/25 17:30:2組卷:50引用:2難度:0.5
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