硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣．
（1）制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅，工業(yè)上可以按如下步驟制備高純硅．
Ⅰ．高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅；
Ⅱ．粗硅與干燥的氯氣在450～500℃條件下反應(yīng)制得SiCl4；
Ⅲ．SiCl4液體經(jīng)精餾提純后與過量H2在1 100～1 200℃條件下反應(yīng)制得高純硅．
已知SiCl4沸點(diǎn)為57.6℃，能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng)．1mol H2與SiCl4氣體完全反應(yīng)吸收的熱量為120.2kJ．
請(qǐng)回答下列問題：
①第Ⅲ步反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為2H2（g）+SiCl4（g） 1100-1200℃ Si（s）+4HCl（g）△H=+240.4kJ?mol-12H2（g）+SiCl4（g） 1100-1200℃ Si（s）+4HCl（g）△H=+240.4kJ?mol-1．
②整個(gè)制備純硅的過程中必須嚴(yán)格控制在無水無氧的條件下．SiCl4在潮濕的空氣中因水解而產(chǎn)生白色煙霧，其生成物是H2SiO3（或H4SiO4）和HClH2SiO3（或H4SiO4）和HCl；H2還原SiCl4過程中若混入O2，可能引起的后果是爆炸爆炸．
（2）二氧化硅被大量用于生產(chǎn)玻璃．工業(yè)上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283kg在高溫下完全反應(yīng)時(shí)放出CO2 44kg,生產(chǎn)出的玻璃可用化學(xué)式Na2SiO3?CaSiO3?xSiO2表示，則其中x=44．
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【考點(diǎn)】硅的性質(zhì)及用途；二氧化硅的性質(zhì)及用途．
【答案】2H2（g）+SiCl4（g） Si（s）+4HCl（g）△H=+240.4kJ?mol-1；H2SiO3（或H4SiO4）和HCl；爆炸；4
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【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
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發(fā)布：2024/6/27 10:35:59組卷：55引用：3難度：0.5
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