請回答下列問題：
（1）制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如下：
①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)方程式：SiHCl3+H2 1357K Si+3HClSiHCl3+H2 1357K Si+3HCl．
②整個制備過程必須嚴(yán)格控制無水無氧．SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，配平后的化學(xué)反應(yīng)方程式為3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl；H2還原SiHCl3過程中若混入O2，可能引起的后果是爆炸爆炸．
（2）下列有關(guān)硅材料的說法正確的是ABCABC （填字母）．
A．碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
B．氮化硅硬度大、熔點高，可用于制作高溫陶瓷和軸承
C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料--光導(dǎo)纖維
D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點很高
E．鹽酸可以與硅反應(yīng)，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
（3）硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃．取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入稀硝酸，振蕩．寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋有白色膠狀沉淀生成，反應(yīng)原理為Na2SiO3+2HNO3=H2SiO3↓+2NaNO3有白色膠狀沉淀生成，反應(yīng)原理為Na2SiO3+2HNO3=H2SiO3↓+2NaNO3．
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K
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【答案】SiHCl3+H2 Si+3HCl；3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl；爆炸；ABC；有白色膠狀沉淀生成，反應(yīng)原理為Na2SiO3+2HNO3=H2SiO3↓+2NaNO3
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【解答】
【點評】
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發(fā)布：2024/6/27 10:35:59組卷：31引用：3難度：0.3
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1．化學(xué)與生產(chǎn)、生活密切相關(guān)，下列說法正確的是（ ?。?/h2>
發(fā)布：2025/1/15 8:0:2組卷：4引用：0難度：0.9 -
2．材料與化學(xué)密切相關(guān)，表中對應(yīng)關(guān)系錯誤的是（ ）
材料 主要化學(xué)成分 A 剛玉、金剛石 三氧化二鋁 B 大理石、石灰石 碳酸鈣 C 普通水泥、普通玻璃 硅酸鹽 D 沙子、石英 二氧化硅 發(fā)布：2025/1/16 8:0:1組卷：75引用：7難度：0.9 -
3．材料與化學(xué)密切相關(guān)，表中對應(yīng)關(guān)系錯誤的是（ ?。?br />
材料 主要化學(xué)成分 A 普通水泥、普通玻璃 硅酸鹽 B 剛玉、金剛石 三氧化二鋁 C 大理石、石灰石 碳酸鈣 D 光導(dǎo)纖維、石英 二氧化硅 發(fā)布：2025/1/16 8:0:1組卷：69引用：3難度：0.9