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菊花是兩性花,LFY是控制花分生組織形成的基因,LFY 基因過量表達(dá)會(huì)使植物開花提前。為使菊花花期提前,科研人員利用過表達(dá)的擬南芥LFY基因制備轉(zhuǎn)基因菊花,重組Ti質(zhì)粒的部分信息及實(shí)驗(yàn)流程如圖1所示。啟動(dòng)子均為真核生物啟動(dòng)子?;卮鹣铝袉栴}:
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重組Ti質(zhì)粒導(dǎo)入農(nóng)桿菌后,利用農(nóng)桿菌轉(zhuǎn)化法轉(zhuǎn)化并篩選LFY轉(zhuǎn)基因菊花。
(1)本實(shí)驗(yàn)中潮霉素的作用是篩選
轉(zhuǎn)入LFY基因的菊花細(xì)胞
轉(zhuǎn)入LFY基因的菊花細(xì)胞
。步驟①的培養(yǎng)一般
不需要
不需要
 (填“需要“或“不需要”)光照。圖中Ⅰ中應(yīng)填
愈傷組織
愈傷組織
。
(2)調(diào)整步驟②和步驟③培養(yǎng)基中
生長素和細(xì)胞分裂素
生長素和細(xì)胞分裂素
的濃度和比例可誘導(dǎo)菊花芽或根的形成。
(3)以
菊花染色體DNA
菊花染色體DNA
為模板,選用LFY基因特異性引物,用PCR檢測LFY基因是否導(dǎo)入菊花細(xì)胞中。用
抗原-抗體雜交
抗原-抗體雜交
方法檢測轉(zhuǎn)基因菊花中LFY蛋白的表達(dá)水平,進(jìn)一步篩選轉(zhuǎn)基因菊花.
(4)為避免該LFY轉(zhuǎn)基因菊花中潮霉素抗性基因帶來潛在的環(huán)境問題,可以優(yōu)化實(shí)驗(yàn)方案,利用攜帶雙T-DNA的Ti質(zhì)粒(圖2)制備轉(zhuǎn)基因菊花。已知當(dāng)Ti質(zhì)粒存在雙T-DNA時(shí),兩個(gè)T-DNA可以獨(dú)立整合進(jìn)植物細(xì)胞染色體DNA中。設(shè)計(jì)一個(gè)轉(zhuǎn)基因植物制備和雜交育種相結(jié)合的實(shí)驗(yàn)方法,篩選只表達(dá)FLY的轉(zhuǎn)基因菊花
將LFY基因和潮霉素抗性基因分別克隆到Ti質(zhì)粒的兩個(gè)T-DNA上,構(gòu)建重組Ti質(zhì)粒;利用農(nóng)桿菌轉(zhuǎn)化法轉(zhuǎn)化并篩選同時(shí)表達(dá)LFY基因和潮霉素抗性基因的菊花;將轉(zhuǎn)基因菊花自交,在子代中篩選出只表達(dá)FLY的轉(zhuǎn)基因菊花
將LFY基因和潮霉素抗性基因分別克隆到Ti質(zhì)粒的兩個(gè)T-DNA上,構(gòu)建重組Ti質(zhì)粒;利用農(nóng)桿菌轉(zhuǎn)化法轉(zhuǎn)化并篩選同時(shí)表達(dá)LFY基因和潮霉素抗性基因的菊花;將轉(zhuǎn)基因菊花自交,在子代中篩選出只表達(dá)FLY的轉(zhuǎn)基因菊花
。( 簡要寫出實(shí)驗(yàn)思路即可)

【考點(diǎn)】基因工程的操作過程綜合
【答案】轉(zhuǎn)入LFY基因的菊花細(xì)胞;不需要;愈傷組織;生長素和細(xì)胞分裂素;菊花染色體DNA;抗原-抗體雜交;將LFY基因和潮霉素抗性基因分別克隆到Ti質(zhì)粒的兩個(gè)T-DNA上,構(gòu)建重組Ti質(zhì)粒;利用農(nóng)桿菌轉(zhuǎn)化法轉(zhuǎn)化并篩選同時(shí)表達(dá)LFY基因和潮霉素抗性基因的菊花;將轉(zhuǎn)基因菊花自交,在子代中篩選出只表達(dá)FLY的轉(zhuǎn)基因菊花
【解答】
【點(diǎn)評】
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發(fā)布:2024/8/6 8:0:9組卷:6引用:2難度:0.6
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    發(fā)布:2024/12/20 5:0:2組卷:35引用:5難度:0.6
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    (1)獲得轉(zhuǎn)基因抗鹽煙草新品種過程中應(yīng)用的生物技術(shù)有
     
    (答出2項(xiàng))等。
    (2)為確保目的基因定向插入了質(zhì)粒,應(yīng)該選擇
     
    (填酶)切割目的基因和質(zhì)粒。在培養(yǎng)基中加入
     
    (填“氨芐青霉素”或“四環(huán)素”)對目的基因進(jìn)行篩選。
    (3)培育轉(zhuǎn)基因抗鹽煙草新品種的核心工作是圖中過程
     
    (填序號)。過程②③采用的方法是
     
    。
    (4)⑤過程需要用到
     
    等植物激素,在誘導(dǎo)愈傷組織分化成幼苗的過程中,這兩種植物激素的比例會(huì)發(fā)生變化,原因是
     

    發(fā)布:2024/12/20 2:30:1組卷:16引用:5難度:0.5
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    限制酶 BamHⅠ EcoRⅠ HindⅠ NbeⅠ MunⅠ
    識(shí)別序列及切割位點(diǎn) G↓CATCC G↓AATTC A↓AGCTT G↓CTAGC C↓AATTG
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    發(fā)布:2024/12/20 3:30:1組卷:6引用:1難度:0.6
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