前不久，中科院光電技術研究所宣布，其承擔的國家重大科研裝備研制項目“超分辨光刻裝備研制”通過驗收。這是世界上首臺用紫外光源實現了22納米分辨率的光刻機。光刻機是生產大規(guī)模集成電路（芯片）的核心設備，光刻機的曝光波長越短，分辨率越高?！敖]式光刻”是一種通過在光刻膠和投影物鏡之間加入浸沒液體，從而減小曝光波長提高分辨率的技術。如圖所示，若浸沒液體的折射率為1.40，當不加液體時光刻膠的曝光波長為189nm,則加.上液體時光在液體中的傳播速度為 2.14×1082.14×108m/s,光刻膠的曝光波長變?yōu)?135135nm（光在真空中的傳播速度c=3.0×108m/s）（計算結果保留三位有效數字）。
【考點】波長、頻率和波速的關系．
【答案】2.14×108；135
【解答】
【點評】
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發(fā)布：2024/6/27 10:35:59組卷：20引用：2難度：0.6
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（1）質點P振動的位移y與時間t的關系式；
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發(fā)布：2024/12/29 20:30:1組卷：91引用：4難度：0.5 -
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