氯化銨（NH4Cl）是一種重要的化工產(chǎn)品．請(qǐng)回答：
Ⅰ．室溫下，0.1mol?L-1的NH4Cl溶液pH=5．NH4Cl溶液呈酸性的原因是 NH+4+H2O?NH3?H2O+H+NH+4+H2O?NH3?H2O+H+（用離子方程式表示），10-5-10-9=c（Cl-）-c（NH+4）c（Cl-）-c（NH+4）（用微粒符號(hào)式表示）．
Ⅱ．NH4Cl作氮肥會(huì)導(dǎo)致土壤酸化及Cl-含量超標(biāo)，前景越來越差．化工專家提出用MgO將NH4Cl轉(zhuǎn)化為附加值更高的NH3和HCl.
（1）有研究認(rèn)為轉(zhuǎn)化過程分兩步完成，原理如下：
水化：MgO（s）+H2O（l）=Mg（OH）2（s）
蒸氨：Mg（OH）2（s）+2NH+4（aq）?Mg2+ （aq）+2NH3?H2O（aq）
已知Kb（NH3?H2O）=2×10-5，Ksp[Mg（OH）2]=5×10-12．“裝氨”反應(yīng)的平衡常數(shù)K=0.01250.0125．加熱有利于提高蒸氨率，原因是 加熱，NH3?H2O受熱分解，平衡向正反應(yīng)方向移動(dòng)加熱，NH3?H2O受熱分解，平衡向正反應(yīng)方向移動(dòng)．
（2）最新研究發(fā)現(xiàn)，MgO比Mg（OH）2更有利于蒸氨，結(jié)果如圖所示：
①“蒸氨率”測(cè)定：加熱混合物，蒸出的NH3用過量H2SO4吸收，稀釋吸收液并定容至250mL，取出25mL用NaOH標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定至終點(diǎn)．滴定前的下列操作的正確順序是 dbaecdbaec（填字母）．
a.盛裝NaOH標(biāo)準(zhǔn)溶液
b.用NaOH標(biāo)準(zhǔn)溶液潤洗
c.讀數(shù)、記錄
d.查漏、清洗
e.排盡滴定管尖嘴的氣泡并調(diào)整液面
②下列操作會(huì)造成所測(cè)“蒸氨率”偏大的是 adad（填字母）．
a.滴定終點(diǎn)時(shí)俯視讀數(shù)
b.錐形瓶用稀釋后的吸收液潤洗
c.滴定前有氣泡，滴定后沒有氣泡
d.定容250mL吸收液時(shí)，有少量溶液濺出
③研究者認(rèn)為：前30min,由于MgO表面存在：MgO（s）+H2O（l）→Mg（OH）+（s）+OH-（aq），比Mg（OH）2固體產(chǎn)生了更多的OH-，提高了“蒸氨率”．請(qǐng)?jiān)O(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)證明：用pH計(jì)分別測(cè)定MgO表面和Mg（OH）2表面溶液的pH用pH計(jì)分別測(cè)定MgO表面和Mg（OH）2表面溶液的pH．
（3）煅燒副產(chǎn)物MgCl2?6H2O實(shí)現(xiàn)MgO再生，其反應(yīng)方程式為 MgCl2?6H2O △ MgO+2HCl↑+5H2OMgCl2?6H2O △ MgO+2HCl↑+5H2O．
NH
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4
NH
+
4
NH
+
4
NH
+
4
NH
+
4
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【答案】+H2O?NH3?H2O+H+；c（Cl-）-c（）；0.0125；加熱，NH3?H2O受熱分解，平衡向正反應(yīng)方向移動(dòng)；dbaec；ad；用pH計(jì)分別測(cè)定MgO表面和Mg（OH）2表面溶液的pH；MgCl2?6H2O MgO+2HCl↑+5H2O
NH
+
4
NH
+
4
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【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
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發(fā)布：2024/6/27 10:35:59組卷：3引用：1難度：0.6
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1．在催化劑作用下，可逆反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）在溫度為323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示（已知：反應(yīng)速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4，k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)）。下列說法錯(cuò)誤的是（ ?。?/h2>發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：40引用：1難度：0.5 -
2．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料。回答下列問題：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（g）+2H2（g）△H=-241kJ/mol
SiHCl3（g）+HCl（g）═SiCl4（g）+H2（g）△H=-31kJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是。
（2）鋁鋰形成化合物L(fēng)iAlH4既是金屬儲(chǔ)氫材料又是有機(jī)合成中的常用試劑，遇水能得到無色溶液并劇烈分解釋放出H2，請(qǐng)寫出其水解反應(yīng)化學(xué)方程式。LiAlH4在化學(xué)反應(yīng)中通常作（填“氧化”或“還原”）劑。工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí)，平衡轉(zhuǎn)化率為，該反應(yīng)是反應(yīng)（填“放熱”“吸熱”）。
②323.15K時(shí)，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間，可采取的最佳措施是。
（4）比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐avb （填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v正=k1x2_SiHCl3，
v逆=k2x2_SiH2Cl2xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，則在353.15K時(shí)=k1k2（保留3位小數(shù)）。
（5）硅元素最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)的水化物是H2SiO3，室溫下，0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液，堿性更強(qiáng)的是，其原因是。
已知：H2SiO3：Ka1=2.0×10-10、Ka2=1.0×10-12，H2CO3：Ka1=4.3×10-7、Ka2=5.6×10-11發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：61引用：2難度：0.2 -
3．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料。回答下列問題：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
①Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（ g）+2H2（g）△H=-24lkJ/mol
②SiHCl3 （g）+HCl（g）═SiCl4 （g）+H2（g）△H=-3lkJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是。
（2）工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí)，平衡轉(zhuǎn)化率為。該反應(yīng)是反應(yīng)（填“放熱”或“吸熱”）。②323.15K時(shí)，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間，可采取的措施有。（答一種即可）
③比較a、b處反應(yīng)速率的大小：vavb（填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v正=k1x2SiHCl3 v逆=k2xSiH2Cl2 xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，則在353.15K時(shí)=k1k2（保留3位小數(shù)）。發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：19引用：1難度：0.5
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