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KMnO4可用作消毒劑、氧化劑、藥物和分析化學試劑等。某小組為探究制備高錳酸鉀的綠色化方案,設計了如圖1所示的實驗流程。
【資料】:
①K2MnO4水溶液呈墨綠色,在水及酸性條件下會發(fā)生歧化反應,生成KMnO4和MnO2。
②在K2CO3溶液中持續(xù)通入CO2,會生成KHCO3。
③室溫時,K2CO3、KHCO3、KMnO4的溶解度分別為111g、33.7g、6.36g。
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(1)共熔時(加溫加壓),反應生成K2MnO4和H2O,反應的化學方程式是
2MnO2+4KOH+O2
加溫加壓
2K2MnO4+2H2O
2MnO2+4KOH+O2
加溫加壓
2K2MnO4+2H2O
。
(2)浸取前,需將共熔后所得的物質粉碎,目的是
增大接觸面積,浸取更充分(加快浸?。?/div>
增大接觸面積,浸取更充分(加快浸?。?/div>。
(3)歧化反應的化學方程式是3K2MnO4+2CO2═2KMnO4+MnO2+2
K2CO3
K2CO3
。判斷歧化時K2MnO4完全反應的方法是:用玻璃棒蘸取溶液點在濾紙上,若觀察到
全是紫紅色(或無墨綠色)痕跡
全是紫紅色(或無墨綠色)痕跡
,表示反應已完全。當溶液pH為10~11,停止通CO2,若CO2過多,可能造成的不良后果是
產(chǎn)物中會混有KHCO3
產(chǎn)物中會混有KHCO3
。
(4)操作1的名稱是
過濾
過濾
,在實驗室完成此操作,需要用到的玻璃儀器有燒杯、玻璃棒和
漏斗
漏斗
,玻璃棒的作用是
引流
引流
。
(5)“…”表示一系列操作,包含蒸發(fā)濃縮→
降溫結晶
降溫結晶
→過濾→洗滌→烘干。烘干時,溫度不宜過高,原因是
防止高錳酸鉀受熱分解
防止高錳酸鉀受熱分解
。此過程中,洗滌的目的是
除去產(chǎn)物中的碳酸鉀等雜質
除去產(chǎn)物中的碳酸鉀等雜質
。
(6)從經(jīng)濟角度考慮,實驗中可循環(huán)使用的物質是
MnO2
MnO2
(填化學式)。
(7)實驗中,也可以加入醋酸(HAc)進行歧化,圖2是歧化時HAc加入量與產(chǎn)物中KMnO4含量的關系圖??梢园l(fā)現(xiàn):當HAc加入量為
35
35
mL時,產(chǎn)物的純度較高。
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(8)實驗室中可用KMnO4制取氧氣。理論上31.6g高錳酸鉀完全分解可以制得多少克氧氣(寫出計算過程,計算結果精確到小數(shù)點后1位)。

【答案】2MnO2+4KOH+O2
加溫加壓
2K2MnO4+2H2O;增大接觸面積,浸取更充分(加快浸取);K2CO3;全是紫紅色(或無墨綠色)痕跡;產(chǎn)物中會混有KHCO3;過濾;漏斗;引流;降溫結晶;防止高錳酸鉀受熱分解;除去產(chǎn)物中的碳酸鉀等雜質;MnO2;35
【解答】
【點評】
聲明:本試題解析著作權屬菁優(yōu)網(wǎng)所有,未經(jīng)書面同意,不得復制發(fā)布。
發(fā)布:2024/6/27 10:35:59組卷:165引用:2難度:0.5
相似題
  • 1.氧化鎂在醫(yī)藥等行業(yè)應用廣泛。實驗室以菱鎂礦(主要成分為MgCO3,含少量FeCO3,其他雜質不溶于水和酸) 為原料制備高純氧化鎂的實驗流程如圖1:
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    (1)為了提高“酸浸”的效果,可采取的措施有:適當升高溫度、
     
    。MgCO3與稀硫酸反應的化學方程式為
     
    。
    (2)“氧化”過程中,將FeSO4全部轉化為Fe2(SO43,然后加氨水,調節(jié)溶液的pH范圍為
     
    。(已知部分金屬陽離子以氫氧化物形成沉淀時溶液的pH見表)
     對應離子  Fe3+ Fe2+ Mg2+
     開始沉淀時的pH 2.7 7.9 9.4
     完全沉淀時的pH 3.7 9.6 11.4
    (3)過濾后得到濾渣2和濾液,濾渣2是
     
    (填化學式),此時濾液中的陽離子一定含有
     
    (填離子符號)。
    (4)煅燒過程存在以下反應:
    2MgSO4+C
    800
    2MgO+2SO2↑+CO2
    MgSO4+C
    800
    MgO+SO2↑+CO↑
    MgSO4+3C
    800
    MgO+S↑+3CO↑
    已知:①硫在常溫下是一種淡黃色固體,硫的熔點約為115.2℃,沸點約為444.7℃;②高錳酸鉀溶液與SO2反應會褪色,且只吸收SO2,不吸收CO2; ③堿溶液既吸收SO2,又吸收CO2.利用如圖2裝置對煅燒產(chǎn)生的氣體進行檢驗并收集。
    ①集氣瓶B中盛放的溶液是
     
    (填字母),C中盛放的溶液是
     
    (填字母)。
    a.Ca(OH)2溶液
    b.KMnO4溶液
    c.NaOH溶液
    d.BaCl2溶液
    ②裝置D的作用是
     

    發(fā)布:2024/12/25 16:0:1組卷:127引用:2難度:0.5
  • 2.硅單質及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題:
    (1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制 備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如圖:
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    ①寫出由純SiHCl3,制備高純硅的化學反應方程式_
     
    。
    ②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質,寫出配平的化學反應方程式
     
    ;H2還原SiHCl3過程中若混入O2,可能引起的后果是
     

    (2)石英砂的主要成分是二氧化硅,高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料----光導纖維。二氧化硅和二氧化碳一樣,也能與氫氧化鈉溶液生成硅酸鈉(其水溶液稱水玻璃)和水。請寫出二氧化硅與氫氧化鈉溶液的化學方程式
     
    。

    發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:23引用:1難度:0.5
  • 3.波爾多液含氫氧化鈣、氫氧化銅和硫酸鈣等物質,是農(nóng)業(yè)上常用的殺菌劑。一種生產(chǎn)波爾多液的工藝流程如圖。
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    (1)“煅燒”的化學方程式為
     
    ,該反應屬于基本反應類型中的
     
    反應。
    (2)“混合”時不能用鐵制容器,原因是
     
    (用化學方程式表示)。
    (3)“混合”時需不斷攪拌,目的是
     
    。
    (4)“混合”過程中發(fā)生復分解反應的化學方程式為
     

    (5)“混合”后得到的波爾多液溫度明顯高于室溫,原因是
     
    。
    (6)用
     
    可以測定波爾多液酸堿度。

    發(fā)布:2024/12/25 17:30:2組卷:50引用:2難度:0.5
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