2021年江蘇省南通市高考化學(xué)考前試卷(5月份)
發(fā)布:2024/4/20 14:35:0
一、單項選擇題:共13題,每題3分,共39分。每題只有一個選項最符合題意。
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1.2021年5月15日,“天問一號”探測器成功軟著陸于火星。這是中國火星探測史上的歷史性事件。新型鋁基碳化硅復(fù)合材料被大量應(yīng)用于火星車的車身。下列關(guān)于該復(fù)合材料可能的性質(zhì)描述不正確的是( ?。?/h2>
組卷:39引用:3難度:0.9 -
2.甲硫醇(CH3SH)是合成蛋氨酸的重要原料。反應(yīng)CH3OH+H2S
CH3SH+H2O可用于甲硫醇的制備。下列有關(guān)說法正確的是( ?。?/h2>Al2O3400℃組卷:14引用:2難度:0.8 -
3.氯是海水中重要的元素。下列有關(guān)氯及其化合物的性質(zhì)與用途具有對應(yīng)關(guān)系的是( ?。?/h2>
組卷:24引用:2難度:0.6 -
4.鍍鋅鐵皮可用于制備七水合硫酸鋅(ZnSO4?7H2O),其流程如圖。
下列有關(guān)說法正確的是( )組卷:66引用:4難度:0.4 -
5.X、Y、Z、W、R是周期表中的短周期主族元素,原子序數(shù)依次增大。Y原子的最外層有4個電子,且未成對電子數(shù)和W相等,R和X同主族,RX為離子化合物。下列說法正確的是( ?。?/h2>
組卷:27引用:1難度:0.5
二、非選擇題:共4題,共61分。
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16.三氯化六氨合鈷(Ⅲ){[Co(NH3)6]Cl3}是制備其它三價鈷配合物的重要試劑。實驗室以活性炭為催化劑,合成三氯化六氨合鈷(Ⅲ)晶體的流程如圖:
已知:①Co2+不易被氧化,Co3+具有強(qiáng)氧化性;[Co(NH3)6]2+具有較強(qiáng)還原性,[Co(NH3)6]3+性質(zhì)穩(wěn)定。
②[Co(NH3)6]Cl3?6H2O在水中的溶解度隨溫度的升高而增大,加入濃鹽酸有利于晶體析出。
(1)“混合”時加入的NH4Cl溶液有利于后續(xù)Co2+與NH3的配合反應(yīng),其原理是
(2)在如圖所示實驗裝置的三頸燒瓶中,發(fā)生“配合、氧化”。
①控制三頸燒瓶中溶液溫度為60℃的原因是
②“配合”步驟安排在“氧化”步驟之前的目的是
③向三頸燒瓶中滴加氨水的實驗操作為
加入H2O2溶液時發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為
(3)設(shè)計由過濾后的濾渣獲取[Co(NH3)6]Cl3?6H2O的實驗方案:向濾渣中加入80℃左右的熱水,組卷:33引用:1難度:0.5 -
17.芯片是國家科技的心臟。在硅及其化合物上進(jìn)行蝕刻是芯片制造中非常重要的環(huán)節(jié)。三氟化氮(NF3)、四氟化碳(CF4)是常見的蝕刻劑。
(1)高純?nèi)獙Χ趸杈哂袃?yōu)異的蝕刻速率和選擇性。
①二氧化硅的晶胞結(jié)構(gòu)如圖-1所示,二氧化硅晶體中硅原子周圍最近的硅原子有
②工業(yè)上常采用F2直接氟化尿素[CO(NH2)2]的方法生產(chǎn)NF3,得到的NF3中常含有少量CF4,常溫下,三種物質(zhì)在水中的溶解性大小順序為:CF4<NF3<NH3,原因是
(2)四氟化碳的一種蝕刻機(jī)理是:CF4在等離子體的條件下產(chǎn)生活性自由基(?F),該自由基易與硅及其化合物中的硅原子結(jié)合生成SiF4氣體從而達(dá)到蝕刻目的。用CF4(g)進(jìn)行蝕刻時常與氧氣混合,當(dāng)混合氣體的流速分別為80mL?min-1和100mL?min-1時,蝕刻速率隨混合氣體中O2和CF4體積之比[V(O2)/V(CF4)]的變化如圖-2所示。
①a點(diǎn)蝕刻速率比b點(diǎn)快的原因是
②蝕刻速率隨V(O2)/V(CF4)先升高后降低的原因是
(3)NF3是一種強(qiáng)溫室氣體,消除大氣中的 NF3對于環(huán)境保護(hù)具有重要意義。國內(nèi)某科研團(tuán)隊研究了利用氫自由基(?H)的脫氟反應(yīng)實現(xiàn)NF3的降解。降解生成?NF2和HF的兩種反應(yīng)歷程如圖-3所示。其中直接抽提反應(yīng)是降解的主要?dú)v程,原因是組卷:33引用:1難度:0.6